光刻是谁发明的（光刻机的发明者）

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文章目录：

• 1、为什么世界最先进的光刻机是荷兰的却不是美国呢？
• 2、光刻机是谁发明的
• 3、世界第一台光刻机什么时候
• 4、光刻机的发展历史

为什么世界最先进的光刻机是荷兰的却不是美国呢？

因为荷兰的光刻机技术发达，美国没有成熟的光刻机制作的技术。

光刻机是谁发明的

法国人Nicephore niepce。尽管光刻机发明的时间较早，但并没有在各行业领域之中被使用，直到第2次世界大战时，该技术应用于印刷电路板，所使用的材料和早期发明时使用的材料也已经有了极大区别，在塑料板上通过铜线路制作，让电路板得以普及，短期之内就成为了众多电子设备领域中关键材料之一。

光刻机：光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精滚空模细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机一般根据操作的简便性分为三种大缓，手动、半自动、全自动。

A手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；

B半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的亏春进行定位调谐；

C自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

世界第一台光刻机什么时候

1822年。

世界第一台光刻机是，1822年法国人尼埃普斯发明的，起初是尼埃普斯发现了一种能够刻在油纸上的印痕，当其出现在了玻璃片上后，经过指辩一段时间的暴晒，透光的部分就会变得很硬，但是在不透光的部分可以橘谨用松香和植物油将其洗掉。

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版唯伍缺上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机的发展历史

光刻技术的发展

1947年,贝尔实验室发明第一只点接触晶体管。从此光刻技术开始了发展。

1959年,世界上第一架晶体管计算机诞生,提出光刻工艺,仙童逗亮如半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片。

1960年代,仙童提出CMs|C制造工艺,第一台C计算机BM360,并且建立了世界上第一台2英寸集成电路生产线,美国GCA公司开发出光学图形发生器和分布重复精缩机。

1970年代,GCA开发出第一台分布重复投影曝光机,集成电路图形线宽从15μm缩小到0.5um节点。山启

1980年代,美国SVGL公司开发出第一代步进扫描投影曝光机,集成电路图形线宽从0.5m缩小到035m节点。

1990年代,n1995年,Cano着手300mm晶圆曝光机,推出EX3L和5步机;ASMLFPA2500,193nm波长步进扫描曝光机、光学光刻分辨率到达70nm的“极限。

2000年以来,在光学光刻技术努力突破分键运辨率“极限”的同时,NGL正在研究,包括极紫外线光刻技术,电子束光刻技术,X射线光刻技术,纳米压印技术等。

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